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激光光刻系統(tǒng)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個(gè)激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。

大面積 SEM 成像 通過(guò) CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克

聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng)用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEM VELION 是一種用于納米科學(xué)與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB 納米加工已成為制造三維和高分辨率納米結(jié)構(gòu)（例如等離子體裝置、納米流體、局部注入和功能化）的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)

專用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實(shí)現(xiàn)納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺(tái)和圖案發(fā)生器，可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、無(wú)拼接錯(cuò)誤曝光模式以及Nanosuite（直觀且全面的納米光刻軟件） ）使 Raith 的系統(tǒng)有別于其他納米光刻設(shè)備。聯(lián)系我們討論哪種系統(tǒng)適合您的需求。

德國(guó)電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫(xiě)場(chǎng)大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過(guò)程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù)，其他過(guò)程均可自動(dòng)完成。

國(guó)產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫(xiě)場(chǎng)大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過(guò)程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù)，其他過(guò)程均可自動(dòng)完成